プラズマ洗浄装置にはアルゴン原子を使うRIEモードと、酸素分子を使うDPモードという2種類の処理方式が存在します。この装置を効果的に活用したいのであれば、状況に応じて最適な処理方式を選ばなければなりません。物体にエネルギーを与え続けると固体から液体、気体へと変化して最終的にプラズマと呼ばれる状態になります。気体に過剰なエネルギーを与えると分子から原子が離れ、さらに原子核から電子が分かれます。

プラズマとは分子がプラス電荷のイオンとマイナス電荷の原子に分離した状態のことです。RIEモードのプラズマ洗浄装置は、アルゴン原子が電離されてアルゴンイオンと電子に分かれます。アルゴンイオンは加速領域であるイオンシースで速度を増し、半導体など精密機器の表面に付着した有機物や無機物に衝突します。DPモードのプラズマ洗浄装置では、酸素分子から酸素原子が離れ精密機器の表面に付着している有機物と反応して水分子と二酸化炭素に変えます。

RIEモードとDPモードはプラズマを発生させるという点では共通していますが、汚れを除去する仕組みに違いがあります。前者は加速したイオンを衝突させて物理的に汚れを除去し、後者は化学反応によって汚れを水分子と二酸化炭素に変え真空ポンプで排出します。有機物と無機物で構成された汚れが生じる場合はRIEモードが効果を発揮しますが、有機物による汚れのみの場合はDPモードが適しています。両者の切り替えが可能なプラズマ洗浄装置もあり、1台で様々な汚れに柔軟に対応できます。