プラズマ装置はプラズマクリーナーと呼ばれており、半導体や電子デバイスの製造工程で用いられます。この装置はプラズマを用いた洗浄技術で、品質や生産性の向上に貢献します。特に半導体業界は微細化が進んでおり、電子材料の洗浄分野も革新的な技術が必要となっています。その中で注目されるのがプラズマ装置で、シリコンウェハなどの洗浄には不可欠な存在です。

また、ICパッケージの製造工程でも様々な異物の除去などに威力を発揮します。現在はドライ洗浄やエッチングなど、処理用途に応じた装置が開発されています。低温タイプやローダー付き特殊タイプなども登場しており、用途ごとにカスタマイズされるものです。プラズマ装置の製造が、IT業界を支えていると言っても過言ではありません。

プラズマ装置には、大きく2つのタイプが存在します。一つ目はアルゴンガスを使ったタイプで、イオンのアプローチ力を活用しています。減圧されたチャンバー内に、アルゴンの原子を挿入する仕組みです。原子は高周波電力により電子とイオンに分離し、イオンはいち早く電極に到達する流れです。

それによってアルゴンイオンと衝突して、対象物の表面から異物を除去します。二つ目は、主として酸素ガスを利用したタイプです。これは、対象物に対して化学反応を起こさせるのが特徴です。チャンバー内に酸素分子を挿入し、高周波電力を発生させます。

それにより酸素分子は電離し酸素原子となり、化学反応で水や二酸化炭素となります。その際に異物が除去され、チャンバー外に排気されるわけです。プラズマ装置のことならこちら